第4年
通过认证 
奥林巴斯 BTX III台式XRD分析仪
奥林巴斯 STM7测量显微镜
奥林巴斯 Vanta手持式XRF X射线荧光
奥林巴斯 激光共焦显微镜
奥林巴斯 Mini-Wheel扫查器
奥林巴斯 VersaMOUSE相控阵探头进行
奥林巴斯 CIX100技术清洁度检测系统
USPM-RU III反射仪可精确测量当前分光仪无法测量的微小、薄样本的光谱反射率，不会与样本背面的反射光产生干涉。是十分适合测量曲面反射率、镀膜评价、微小部品的反射率测定系统。
消除背面反射光
采用特殊光学系统，消除背面反射光。
不必进行背面的防反射处理，可正确测定表面的反射率。可测定微小区域的反射率
用物镜对焦于样本表面的微小光斑（ø60 μm），可以测定镜片曲面及镀膜层是否均匀。测定时间短
由于使用了Flat Field Grating（平面光栅）和线传感器的高速分光测光机构，可以进行快速、再现性很高的测定。支持XY色度图、L*a*b*测定
可以依据分光测色法，通过分光反射率测定物体颜色。可以测定高强度镀膜的膜厚
采用干涉光分光法，可以在不接触、无损的情况下测定被检物的膜厚（单层膜）。
| 测定波长 | 380 nm～780 nm |
|---|---|
| 测定方法 | 与参照样本的比较测定 |
| 被检物N.A. | 0.12（使用10×物镜时） 0.24（使用20×物镜时） * 与物镜的N.A.不同。 |
| 被检物W.D. | 10.1 mm（使用10×物镜时） 3.1 mm（使用20×物镜时） |
| 被检物的曲率半径 | -1R ～-∞、+1R～∞ |
| 被检物的测定范围 | 约ø60 μm（使用10×物镜时） 约ø30 μm（使用20×物镜时） |
| 测定再现性（2σ） | ±0.1%（380 nm～410 nm测定时） ±0.01%（410 nm～700 nm测定时） |
| 显示分辨率 | 1 nm |
| 测定时间 | 数秒～十几秒（因取样时间而异） |
| 光源规格 | 卤素灯 12 V 100 W |
| 载物台Z方向驱动范围 | 85mm |
| PC接口 | USB方式 |
| 装置重量 | 机身：约20 kg（PC、打印机除外） 光源用电源：约3 kg 控制器盒：约8 kg |
| 装置尺寸 | 机身： 300（W）×550（D）×570（H） mm 光源用电源： 150（W）×250（D）×140（H） mm 控制器盒： 220（W）×250（D）×140（H） mm |
| 电源规格 | 光源用电源： 100 V（2.8 A）/220 V AC 控制器盒： 100V（0.2A）/220V AC |
| 使用环境 | 水平且无振动的地方 温度： 23±5 °C 湿度： 60%以下、无结露 |
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